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            全自動帶顯微鏡多點測量膜厚儀

            簡要描述:硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。

            • 產品型號:FR-Mic
            • 廠商性質:代理商
            • 產品資料:查看pdf文檔
            • 更新時間:2023-11-22
            • 訪  問  量: 8819

            詳細介紹

            硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控 制的XY工作臺,使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。品牌屬于Thetametrisis。

            Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區域薄膜厚度,厚度映射,光學常數,反射率,折射率及消光系數進行測量。

            【相關應用】

            1.高校 & 研究所實驗室

            2.半導體制造

            3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)

            4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)

            5.LEDs, VCSELs

            6.數據存儲

            7.陽極處理

            8.曲面基底的硬鍍及軟鍍

            9.聚合物膜層, 粘合劑

            10.生物醫學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)

            11.還有許多…

            Thetametrisis膜厚儀特點】

            1、實時光譜測量

            2、薄膜厚度,光學特性,非均勻性測量, 厚度映射

            3、使用集成的,USB連接高品質彩色攝像機進行成像



            Thetametrisis膜厚儀產品優勢】

            1、單擊即可分析 (無需初始預測)

            2、動態測量

            3、包含光學參數 (n & k, color)

            4、可保存測量演示視頻錄像

            5、超過 600 種不同材料o 多個離線分析配套裝置o 免費操作軟件升級

            【技術參數】

            型號

            UV/VIS

            UV/NIR-EXT

            UV/NIR-HR

            DUV/NIR

            VIS/NIR

            DVIS/NIR

            NIR

            光譜波長范圍(nm)

            200–850

            200–1020

            200-1100

            200–1700

            370–1020

            370–1700

            900–1700

            光譜儀像素

            3648

            3648

            3648

            3648&512

            3648

            3648&512

            512

            膜厚測量范圍

            5X-VIS/NIR

            15nm–60μm

            15nm–70μm

            15nm–90μm

            15nm–150μm

            15nm–90μm

            15nm–150μm

            100nm–150μm

            10X-VIS/NIR

            10X-UV/NIR*

            4nm–50μm

            4nm–60μm

            4nm–80μm

            4nm–130μm

            15nm–80μm

            15nm–130μm

            100nm–130μm

            15X-UV/NIR*

            4nm–40μm

            4nm–50μm

            4nm–50μm

            4nm–120μm

            20X-VIS/NIR

            20X-UV/NIR*

            4nm–25μm

            4nm–30μm

            4nm–30μm

            4nm–50μm

            15nm–30μm

            15nm–50μm

            100nm–50μm

            40X-UV/NIR*

            4nm–4μm

            4nm–4μm

            4nm–5μm

            4nm–6μm

            50X-VIS/NIR

            15nm–5μm

            15nm–5μm

            100nm–5μm

            測量n&k蕞小厚度

            50nm

            50nm

            50nm

            50nm

            100nm

            100nm

            500nm

            光源

            氘燈&鹵素燈(internal)

            鹵素燈(internal)

            材料數據庫

            >600不同材料

            *測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。

            物鏡

            光斑尺寸(μm)

            500μm孔徑

            250μm孔徑

            100μm孔徑

            5x

            100μm

            50μm

            20μm

            10x

            50μm

            25μm

            10μm

            20x

            25μm

            17μm

            5μm

            50x

            10μm

            5μm

            2μm

            【工作原理】



            *規格如有更改,恕不另行通知, 測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續 15 天測量的標準方差平均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測量的標準方差,樣品:1um SiO2 on Si.

            *超過 15 天的標準偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。

            以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細的信息,請聯系我們獲取。



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