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            當前位置:首頁  >  產品中心  >  膜厚儀  >  硬化涂層膜厚儀  >  FR-pOrtableThetametrisis便攜式光學膜厚儀

            Thetametrisis便攜式光學膜厚儀

            簡要描述:Thetametrisis便攜式光學膜厚儀FR-prtable是一款*的USB便攜式測量儀器,可對透明和半透明的單層或多層堆疊薄膜進行準確的無損(非接觸式)表征。

            • 產品型號:FR-pOrtable
            • 廠商性質:代理商
            • 產品資料:
            • 更新時間:2023-11-22
            • 訪  問  量: 3286

            詳細介紹

            Thetametrisis便攜式光學厚度測量儀FR-prtable是一款*的USB便攜式測量儀器,可對透明和半透明的單層或多層堆疊薄膜進行準確的無損(非接觸式)表征。

            使用FR-prtable,用戶可以在380-1020nm光譜范圍內進行反射率和透射率測量。

            Thetametrisis膜厚儀FR-prtable的緊湊尺寸以及定制設計的反射探頭以及寬帶長壽命光源確保了高精度和可重復的便攜式測量。

            FR-Prtable既可以安裝在提供的載物臺上,也可以輕松轉換為手持式厚度測量工具。放置在待表征的樣品上方即可進行測量。

            FR-Prtable是用于工業環境(如R2R、帶式輸送機等)中涂層實時表征的可靠而準確的測厚儀。

            FR-prtable是適用于現場應用的一款光學表征工具。

            應用領域:

            1.大學&科研院所

            2.半導體(氧化物、氮化物、硅、電阻等)

            3.MEMS元器件(光刻膠、硅薄膜等)

            4.LED

            5.數據存儲元件

            6.彎曲基材(襯底)上的硬/軟涂層

            7.聚合物涂層、粘合劑等

            8.生物醫學(parylene——派瑞林,氣泡壁厚,等等)

            9.其他更多…

            Thetametrisis便攜式光學膜厚儀產品特點:

            1、一鍵分析(無需初始化操作)動態測量

            2、測量光學參數(n&k,顏色)自動保存演示視頻

            3、可測量600多種不同材料用于離線分析的多個設置免費軟件更新服務

             

             


            ThetametrisisUSB膜厚儀技術參數:

             

            厚度范圍

            12nm–90μm

            計算折射率

            P

            測厚準確度1

            0.2%or1nm

            測厚準確度2,3

            0.02nm

            穩定性4

            0.05nm

            樣品規格

            1mmto180mm或更大

            光譜波段

            380nm–1020nm

            工作距離

            3mm-20mm

            光斑大小

            360um(diameter)

            光源壽命

            20000h

            波長分辨率

            0.8nm

            可測量膜層堆疊層數

            Max.5layers

            測量速度

            10ms

            A/D轉換器

            16bit

            電源

            USB-supplied

            外形尺寸

            300mmx110mmx40mm5

            硬件配置:

            1、現場適配器:根據測量現場需求

            2、透射率模塊:用于測量涂層的透射率和吸收率光譜,涂層厚度等

            3、手動X-Y平臺:用于在多個位置對涂層進行表征(手動移動)

            工作原理:

            白光反射光譜(WLRS)測量方法是在一定波長范圍內,分析垂直于樣品表面的入射光和從單層或多層堆疊薄膜反射的反射光譜的分析方法。

            由界面&表面產生的反射光譜被用于確定獨立和附著于基底(在透明或部分/全反射基底上)的堆疊膜層的厚度、光學常數(n&k)等。

             

             

            *規格如有更改,恕不另行通知,:2測量結果與校準的光譜橢偏儀和XRD相比較,3連續15天測量的標準方差平均值.樣品:1umSi2nSi.,4100次厚度測量的標準方差,樣品:1umSi2nSi.,,52*超過15天的標準偏差日平均值樣品:1umSi2nSi.

            (如有需求,請與我們聯系,點擊下圖可以了解更多關于Thetametrisis膜厚儀的產品信息)

             

             

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