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            納米壓印光刻系統

            簡要描述:納米壓痕儀支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。

            • 產品型號:EVG610
            • 廠商性質:代理商
            • 產品資料:
            • 更新時間:2023-11-29
            • 訪  問  量: 3225

            詳細介紹

            納米壓痕儀是一種用于研究材料力學性質的儀器。它使用納米尖頭或探針對樣品表面施加壓力,并通過測量在加載和卸載過程中的位移和力來評估材料的硬度、彈性模量和粘彈性等性能。這種儀器通常用于納米材料、薄膜、涂層和生物材料等領域的研究和表征。

            納米壓痕儀
            簡介:

            該工具支持多種標準光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并可選擇背面對準。此外,該系統還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準和納米壓印光刻(NIL)。

            EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求,因此使其成為大學和研發應用程序的理想選擇。

            對于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括印章的釋放機制。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力,以實現高產量的壓印,該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。
            納米壓痕儀技術數據:
            1) 晶圓直徑(基板尺寸)
            2) 標準光刻:碎片蕞大150毫米
            3) 柔軟的UV-NIL:蕞大150毫米的碎片
            4) 解析度:≤40 nm(分辨率取決于模板和工藝)
            5) 支持流程:柔軟的UV-NIL
            6) 曝光源:汞光源或紫外線LED光源
            7) 自動分離功能:不支持
            8) 工作印章制作:外部
            納米壓痕儀特征:
            1) 頂部和底部對準能力
            2) 高精度對準臺
            3) 自動楔形誤差補償機制
            4) 電動和配方控制的曝光間隙
            5) 支持新的UV-LED技術
            6) 蕞小化系統占地面積和設施要求
            7) 分步流程指導
            8) 遠程技術支持
            9) 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和配方,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
            10) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉換
            11) 臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
            納米壓痕儀主要應用:
            具有紫外線納米壓印功能的通用研發掩膜對準系統,支持尺寸從碎片到蕞大150毫米。
            附加功能:
            1) 鍵對準
            2) 紅外對中
            3) 納米壓印光刻
            4) 微接觸印刷
            納米壓印工藝結果:

            圖1  微鏡頭

            圖2  納米壓印結果(100納米分辨率)


             

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